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首頁 > SCI期刊 > 物理與天體物理期刊 > 中科院4區(qū) > SCIE期刊 > Ieee Transactions On Plasma Science(非官網(wǎng))

Ieee Transactions On Plasma Science SCIE

國際簡稱:IEEE T PLASMA SCI  參考譯名:IEEE Transactions On Plasma Science

主要研究方向:物理:流體與等離子體-物理  非預(yù)警期刊  審稿周期: 約3.7個(gè)月

《IEEE Transactions On Plasma Science》(Ieee Transactions On Plasma Science)是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的以物理:流體與等離子體-物理為研究特色的國際期刊,發(fā)表該領(lǐng)域相關(guān)的原創(chuàng)研究文章、評(píng)論文章和綜述文章,及時(shí)報(bào)道該領(lǐng)域相關(guān)理論、實(shí)踐和應(yīng)用學(xué)科的最新發(fā)現(xiàn),旨在促進(jìn)該學(xué)科領(lǐng)域科學(xué)信息的快速交流。該期刊是一本未開放期刊,近三年沒有被列入預(yù)警名單。

  • 4區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q3 JCR分區(qū)
  • 419 年發(fā)文量
  • 1.3 IF影響因子
  • 未開放 是否OA
  • 98 H-index
  • 1973 創(chuàng)刊年份
  • Bimonthly 出版周期
  • English 出版語言

The scope covers all aspects of the theory and application of plasma science. It includes the following areas: magnetohydrodynamics; thermionics and plasma diodes; basic plasma phenomena; gaseous electronics; microwave/plasma interaction; electron, ion, and plasma sources; space plasmas; intense electron and ion beams; laser-plasma interactions; plasma diagnostics; plasma chemistry and processing; solid-state plasmas; plasma heating; plasma for controlled fusion research; high energy density plasmas; industrial/commercial applications of plasma physics; plasma waves and instabilities; and high power microwave and submillimeter wave generation.

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Ieee Transactions On Plasma Science期刊信息

  • ISSN:0093-3813
  • 出版語言:English
  • 是否OA:未開放
  • E-ISSN:1939-9375
  • 出版地區(qū):UNITED STATES
  • 是否預(yù)警:
  • 出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
  • 出版周期:Bimonthly
  • 創(chuàng)刊時(shí)間:1973
  • 開源占比:0.0733
  • Gold OA文章占比:3.86%
  • OA被引用占比:0.0011...
  • 出版國人文章占比:0
  • 出版撤稿占比:0
  • 研究類文章占比:99.05%

Ieee Transactions On Plasma Science CiteScore評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)(2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore 指數(shù)
3 0.417 0.861
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Nuclear and High Energy Physics Q2 42 / 87

52%

大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q3 247 / 434

43%

名詞解釋:CiteScore 是衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù),是在 Scopus 中衡量期刊影響力的另一個(gè)指標(biāo)。當(dāng)年CiteScore 的計(jì)算依據(jù)是期刊最近4年(含計(jì)算年度)的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻(xiàn)數(shù)。例如,2022年的 CiteScore 計(jì)算方法為:2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的對(duì)2019-2022年發(fā)表的文件的引用數(shù)量÷2019-2022年發(fā)布的文獻(xiàn)數(shù)量 注:文獻(xiàn)類型包括:文章、評(píng)論、會(huì)議論文、書籍章節(jié)和數(shù)據(jù)論文。

Ieee Transactions On Plasma Science中科院評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)

中科院 2023年12月升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)

中科院 2022年12月升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)

中科院 2021年12月舊的升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)

中科院 2021年12月基礎(chǔ)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
物理 4區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)

中科院 2021年12月升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)

中科院 2020年12月舊的升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類學(xué)科 小類學(xué)科
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)

Ieee Transactions On Plasma Science JCR評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)(2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 29 / 40

28.7%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 30 / 40

26.25%

Ieee Transactions On Plasma Science歷年數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)

影響因子
中科院分區(qū)

Ieee Transactions On Plasma Science中國學(xué)者發(fā)文選摘

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免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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