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中科院 1區(qū) 期刊 JCR Q1 期刊 中科院 2區(qū) 期刊 JCR Q2 期刊 中科院 3區(qū) 期刊 JCR Q3 期刊 中科院 4區(qū) 期刊 JCR Q4 期刊國際簡稱:PLASMA SOURCES SCI T 參考譯名:等離子源科技
主要研究方向:物理-物理:流體與等離子體 非預(yù)警期刊 審稿周期: 約6.0個月
《等離子源科技》(Plasma Sources Science & Technology)是一本由IOP Publishing Ltd.出版的以物理-物理:流體與等離子體為研究特色的國際期刊,發(fā)表該領(lǐng)域相關(guān)的原創(chuàng)研究文章、評論文章和綜述文章,及時報(bào)道該領(lǐng)域相關(guān)理論、實(shí)踐和應(yīng)用學(xué)科的最新發(fā)現(xiàn),旨在促進(jìn)該學(xué)科領(lǐng)域科學(xué)信息的快速交流。該期刊是一本未開放期刊,近三年沒有被列入預(yù)警名單。該期刊享有很高的科學(xué)聲譽(yù),影響因子不斷增加,發(fā)行量也同樣高。
Plasma Sources Science and Technology (PSST) reports on low-temperature plasmas and ionized gases operating over all ranges of gas pressure and plasma density, with varying degrees of ionization. The emphasis of PSST is on the fundamental science of these plasmas, their sources and the physical and chemical processes initiated or sustained by them, as elucidated through theoretical, computational or experimental techniques. PSST also reports on new experimentally or theoretically derived fundamental data (e.g. cross sections, transport coefficients) required for investigation of low temperature plasmas. Reports that relate to the technology and applications of these plasmas should be closely linked to the science and fundamental processes occurring in the plasma state.
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指數(shù) | ||||||||
7.1 | 0.771 | 1.373 |
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名詞解釋:CiteScore 是衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù),是在 Scopus 中衡量期刊影響力的另一個指標(biāo)。當(dāng)年CiteScore 的計(jì)算依據(jù)是期刊最近4年(含計(jì)算年度)的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻(xiàn)數(shù)。例如,2022年的 CiteScore 計(jì)算方法為:2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的對2019-2022年發(fā)表的文件的引用數(shù)量÷2019-2022年發(fā)布的文獻(xiàn)數(shù)量 注:文獻(xiàn)類型包括:文章、評論、會議論文、書籍章節(jié)和數(shù)據(jù)論文。
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 | ||
否 | 否 | 物理與天體物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 1區(qū) |
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是 | 否 | 物理與天體物理 | 1區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 1區(qū) |
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是 | 否 | 物理與天體物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 1區(qū) |
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是 | 否 | 物理與天體物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 1區(qū) |
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否 | 否 | 物理與天體物理 | 2區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 2區(qū) |
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.3% |
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.25% |
Author: Zhou, Chen; Yuan, Chengxun; Kudryavtsev, Anatoly; Yasar Katircioglu, T.; Rafatov, Ismail; Yao, Jingfeng
Journal: PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY. 2023; Vol. 32, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6595/acb3f6
Author: Zhao, Zheng; Li, Chenjie; Guo, Yulin; Zheng, Xinlei; Sun, Anbang; Li, Jiangtao
Journal: PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY. 2023; Vol. 32, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6595/acacc5
Author: Chen, Kai; Yao, Chenguo; Mao, Yilong; Wu, Feiyu; Chen, Yue; Dong, Shoulong; Wang, Hao
Journal: PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY. 2023; Vol. 32, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6595/acad9e
Author: Shu, Zhan; Qiao, Junjie; Yang, Qi; Song, Yijia; Wang, Dazhi; Xiong, Qing
Journal: PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY. 2023; Vol. 32, Issue 2, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6595/acb592
Author: Ren, Chenhua; Huang, Bangdou; Zhang, Cheng; Qi, Bo; Chen, Weijiang; Shao, Tao
Journal: PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY. 2023; Vol. 32, Issue 2, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6595/acb4b9
Author: Liu, Yue; Vass, Mate; Huebner, Gerrit; Schulenberg, David; Hemke, Torben; Bischoff, Lena; Chur, Sascha; Steuer, David; Golda, Judith; Boeke, Marc; Schulze, Julian; Korolov, Ihor; Mussenbrock, Thomas
Journal: PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY. 2023; Vol. 32, Issue 2, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6595/acb9b8
Author: Liu, Kun; Geng, Wenqiang; Zhou, Xiongfeng; Duan, Qingsong; Zheng, Zhenfeng; Ostrikov, Kostya (Ken)
Journal: PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY. 2023; Vol. 32, Issue 2, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6595/acb814
Author: Liu, Chang-Yu; Wang, Hai-Xing; Wang, Chao; Meng, Xian; Huang, He-Ji; Cao, Jin-Wen; Sun, Su-Rong; Yan, Cong
Journal: PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY. 2023; Vol. 32, Issue 2, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6595/acb816
Apl Photonics
中科院 1區(qū) JCR Q1
Infrared Physics & Technology
中科院 3區(qū) JCR Q2
Japanese Journal Of Applied Physics
中科院 4區(qū) JCR Q3
Epl
中科院 4區(qū) JCR Q2
Optics Express
中科院 2區(qū) JCR Q2
Journal Of Nonlinear Mathematical Physics
中科院 4區(qū) JCR Q2
Acta Photonica Sinica
中科院 4區(qū) JCR Q4
Photonics
中科院 4區(qū) JCR Q2
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